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Si深刻蚀系统NLD-5700Si
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Si深刻蚀系统NLD-5700Si

良好的重复性和稳定的过程;对光阻的高选择性(200-500),对CD偏移的良好控制;蚀刻后光滑的侧壁;可以蚀刻超精细(<100nm)和高纵横比器件;可以对玻璃基板(石英,Pyrex)进行深度蚀刻。


Si深刻蚀系统NLD-5700Si

      描述:


      该系统能够使用ULVAC原始工艺进行深硅蚀刻,而无须使用博世工艺和Cyro Genics工艺。该系统也可用于石英蚀刻。


      特性:


      良好的重复性和稳定的过程。


      对光阻的高选择性(200-500),对CD偏移的良好控制。


      蚀刻后光滑的侧壁。


      可以蚀刻超精细(<100nm)和高纵横比器件。


      可以对玻璃基板(石英,Pyrex)进行深度蚀刻。


      应用:


      电力行业


      眼镜行业


      金属,机械行业


      研究与开发


      Bio















 


Si深刻蚀系统NLD-5700Si

      描述:


      该系统能够使用ULVAC原始工艺进行深硅蚀刻,而无须使用博世工艺和Cyro Genics工艺。该系统也可用于石英蚀刻。


      特性:


      良好的重复性和稳定的过程。


      对光阻的高选择性(200-500),对CD偏移的良好控制。


      蚀刻后光滑的侧壁。


      可以蚀刻超精细(<100nm)和高纵横比器件。


      可以对玻璃基板(石英,Pyrex)进行深度蚀刻。


      应用:


      电力行业


      眼镜行业


      金属,机械行业


      研究与开发


      Bio